| 释义 |
英语缩略词“APCVD”经常作为“Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“大气压化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词APCVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词APCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。
“APCVD”（“大气压化学气相沉积）释义 - 英文缩写词：APCVD
- 英文单词：Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition
- 缩写词中文简要解释：大气压化学气相沉积
- 中文拼音：dà qì yā huà xué qì xiāng chén jī
- 缩写词分类：Academic & Science
- 缩写词领域：Physics
以上为Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition英文缩略词APCVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。
英文缩略词APCVD的扩展资料-
TiN films were deposited on glass substrates by atmospheric pressure chemical vapor deposition ( APCVD ) using titanium tetrachloride ( TiCl_4 ) and ammonia ( NH_3 ) as reactants, nitrogen ( N_2 ) as protective atmosphere and carrier gas in this paper.
本论文利用化学气相沉积法（APCVD），以TiCl4和NH3气体作为反应物，以惰性气体N2作为保护气体和载气，在玻璃基板上沉积TiN薄膜。
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The paper put forward an aim to deposit titanium films and TiO_2 / SnO_2 : F multiple films prepared by the method of dielectric barrier discharge atmospheric pressure chemical vapor deposition ( DBD-CVD ).
提出以介质阻挡放电化学气相沉积法（DBD-CVD）制备TiO2单层薄膜和TiO2/SnO2：F复合薄膜的实验目标。
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Structure and Hydrophilicity of Titanium Dioxide Film Prepared by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition(APCVD)
AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究
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Growth and Properties of TiN Films on Glass by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition(APCVD)
TiN镀膜玻璃的常压化学气相沉积法制备及其光电性能研究
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The atmospheric pressure chemical vapor deposition ( APCVD ) technique has a great application potential to be a method to prepared the economical tin oxide films for its simple equipment, inexpensive and suitable for mass production.
常压化学气相沉积法以其设备简单、成本低、易实现大面积镀膜等优点成为一种很有应用潜力的制备SnO2薄膜的方法，在镀膜玻璃的工业化生产中有广阔的应用前景。
上述内容是“Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition”作为“APCVD”的缩写，解释为“大气压化学气相沉积”时的信息，以及英语缩略词APCVD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。
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