| 释义 |
英语缩略词“WCVD”经常作为“Tungsten (Wolfram) Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“钨（钨）化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词WCVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词WCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。
“WCVD”（“钨（钨）化学气相沉积）释义 - 英文缩写词：WCVD
- 英文单词：Tungsten (Wolfram) Chemical Vapor Deposition
- 缩写词中文简要解释：钨（钨）化学气相沉积
- 中文拼音：wū wū huà xué qì xiāng chén jī
- 缩写词分类：Academic & Science
- 缩写词领域：Electronics
以上为Tungsten (Wolfram) Chemical Vapor Deposition英文缩略词WCVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。
上述内容是“Tungsten (Wolfram) Chemical Vapor Deposition”作为“WCVD”的缩写，解释为“钨（钨）化学气相沉积”时的信息，以及英语缩略词WCVD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。
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