| 释义 |
英语缩略词“DCVD”经常作为“Dielectric Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“介质化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词DCVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词DCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。
“DCVD”（“介质化学气相沉积）释义 - 英文缩写词：DCVD
- 英文单词：Dielectric Chemical Vapor Deposition
- 缩写词中文简要解释：介质化学气相沉积
- 中文拼音：jiè zhì huà xué qì xiāng chén jī
- 缩写词分类：Academic & Science
- 缩写词领域：Electronics
以上为Dielectric Chemical Vapor Deposition英文缩略词DCVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。
英文缩略词DCVD的扩展资料-
The paper put forward an aim to deposit titanium films and TiO_2 / SnO_2 : F multiple films prepared by the method of dielectric barrier discharge atmospheric pressure chemical vapor deposition ( DBD-CVD ).
提出以介质阻挡放电化学气相沉积法（DBD-CVD）制备TiO2单层薄膜和TiO2/SnO2：F复合薄膜的实验目标。
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Study on the Dielectric Properties of Diamond Thin Film Prepared by Chemical Vapor Deposition
CVD金刚石薄膜的介电性能研究
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Preparation of Low Dielectric Constant SiCOF thin Films by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
等离子体化学气相淀积新型低介电常数SiCOF介质薄膜
上述内容是“Dielectric Chemical Vapor Deposition”作为“DCVD”的缩写，解释为“介质化学气相沉积”时的信息，以及英语缩略词DCVD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。
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