| 释义 |
英语缩略词“LTCVD”经常作为“Low-Temperature Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“低温化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词LTCVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词LTCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。
“LTCVD”（“低温化学气相沉积）释义 - 英文缩写词：LTCVD
- 英文单词：Low-Temperature Chemical Vapor Deposition
- 缩写词中文简要解释：低温化学气相沉积
- 中文拼音：dī wēn huà xué qì xiāng chén jī
- 缩写词分类：Academic & Science
- 缩写词领域：Electronics
以上为Low-Temperature Chemical Vapor Deposition英文缩略词LTCVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。
英文缩略词LTCVD的扩展资料-
Low-temperature polycrystalline Si films were fabricated by radio frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition using SiH_4, Ar and H_2 as source gas.
以SiH4，Ar和H2为反应气体，采用射频等离子体化学气相沉积方法在300℃下制备了低温多晶Si薄膜。
上述内容是“Low-Temperature Chemical Vapor Deposition”作为“LTCVD”的缩写，解释为“低温化学气相沉积”时的信息，以及英语缩略词LTCVD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。
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